檢索結果：共12筆資料 檢索策略： "許覺良".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="原子力顯微鏡"
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本文利用比下壓能觀念，建立兩種最佳化之逐步逼近到預定之奈米流道梯形凹槽深度之目標收斂函數的最少切削道次之估算方法。第一種為三切削道次偏移循環加工方法，每一切削道次皆為固定下壓力進行加工，進而估算出達…
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本文應用計算化學反應層厚度理論方法及實驗，探討受研磨液影響之不同浸泡條件的單晶矽晶圓基板化學反應層厚度及在固定下壓力下不同浸泡條件的切削深度。本研究先運用原子力顯微鏡之實驗，得出未受研磨液浸泡的單晶…
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本文創新提出受研磨液影響藍寶石晶圓基板的化學反應之估算藍寶石晶圓基板化學反應層厚度的理論模式。本文亦進行原子力顯微鏡實驗，估算不同研磨液浸泡條件之比下壓能值。本實驗之研磨液條件為研磨液浸泡時間5分鐘…
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本文創新提出假設不同軸向比下壓能的值約為相同之定值的概念，依據不同軸向的比下壓能理論模式,以及已知奈米級加工深度及刀具形狀,推導出估算奈米級加工單晶矽工件V型溝槽的下壓力及切削力的理論公式。本文先進…
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本研究以二體勢能函數建立一套接觸式原子力顯微鏡梯形樑定力模式之模擬奈米級量測模型。模擬方法為當探針Tip經過試片表面，利用Morse勢能計算出試片原子對探針Tip原子之受力，經由計算得出對探針懸臂之…
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本文應用原子力顯微鏡(Atomic Force Microscopy,AFM)加工藍寶石基板之奈米級凹槽本文創新提出以比下壓能之觀念建立加工藍寶石基板奈米級凹槽圖形之兩種加工方法。本文提出的第一種加…
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本研究以二體勢能函數建立一套接觸式原子力顯微鏡定力模式之模擬奈米級量測模型。模擬方法為當探針Tip經過試片表面，利用Morse勢能計算出試片原子對探針Tip原子之受力，經由計算得出對探針懸臂之等效力…
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摘 要 本研究主要是探討接觸式原子力顯微鏡(Contact Mode Atomic Force Microscopy,CM-AFM)使用不同探針懸臂外型與尺寸所造成不同的量測誤差與輕敲式原子力顯微…
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本文前半部分為整合直線段及1/4圓弧曲線加工的微奈米流道，故本文提出加工直線段連結1/4圓弧之奈米流道梯型凹槽到預定寬度及預定深度的模擬模式及公式。本文先利用比下壓能公式及兩道次偏移加工法，進一步推…